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SSSC推出原子层沉积工艺用阀科技动态行业资讯资讯-【资讯】

发布时间:2021-07-21 17:18:44 阅读: 来源:道钉厂家

Swagelok半导体服务公司(SSSC)向半导体产业推出一款全新的阀产品。目前在Swagelok公司的独立销售网络和服务中心均有销售的Swagelok ALD系列阀是应用于原子层沉积(ALD)工艺的超高纯度气动阀。

ALD技术是半导体产业的一项新兴沉积技术。原子层沉积工艺是半导体处理技术中发展速度最快的一个领域,为了达到它的严格要求,Swagelok的ALD系列阀具备了以下优势:该阀的致动速度极快,致动时间不超过5毫秒;它有极高的循环寿命-在产品评估时循环次数超过了25,000,000。该公司正在申请专利的流量设定功能能够保证制程气体输送的一致性。采用316L VIM/VAR不锈钢材料制成,阀体带1/4英寸VCR?,以及1/4英寸和6毫米的对焊管接头。可供选择的产品包括一款高温型,它最高可适用于200摄氏度的温度,还有多门、多路阀以及模块化表面安装型等各种配置。

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